你的位置:首頁 > 產(chǎn)品展示 > 光學(xué)元件 > 分離器 >薄型Nd:YAG激光譜線光束取樣器
產(chǎn)品詳細(xì)頁薄型Nd:YAG激光譜線光束取樣器
- 產(chǎn)品型號:
- 更新時(shí)間:2024-03-06
- 產(chǎn)品介紹:薄型Nd:YAG激光譜線光束取樣器TECHSPEC® 薄型 Nd:YAG 激光譜線光束取樣器基于菲涅爾反射和透射特性設(shè)計(jì),能隔離少量入射光束,以實(shí)現(xiàn)光束監(jiān)測目的。這些光束采樣器的設(shè)計(jì)厚度僅為 1 毫米,便于在安裝空間或產(chǎn)品重量受限的情況下使用。此外,第二個(gè)光學(xué)面上具有高損傷閾值的抗反射(AR)涂層可最大限度地提高透射率,減少鬼影反射。
- 廠商性質(zhì):代理商
- 在線留言
產(chǎn)品介紹
品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子,綜合 |
---|
l 1 毫米超薄設(shè)計(jì),適用于安裝空間或產(chǎn)品重量受限的應(yīng)用場景
l 未鍍膜的第一個(gè)光學(xué)面提供菲涅爾反射
l 第二個(gè)光學(xué)面使用AR 涂層用以提供高透射率
l 高激光損傷閾值鍍膜用以避免激光刻蝕損傷
通用規(guī)格
入射角 (°): | 0 ±5 | 基底: | Fused Silica (Corning 7980) |
折射率 nd: | 1.458 | 表面質(zhì)量: | 20-10 |
厚度 (mm): | 1.00 ±0.10 | 有效孔徑 (%): | 90 |
平行度(弧分): | <0.50 | Transmitted Wavefront Distortion: | 0.167 @ 632.8nm |
產(chǎn)品介紹
TECHSPEC® 薄型 Nd:YAG 激光譜線光束取樣器基于菲涅爾反射和透射特性設(shè)計(jì),能隔離少量入射光束,以實(shí)現(xiàn)光束監(jiān)測目的。這些光束采樣器的設(shè)計(jì)厚度僅為 1 毫米,便于在安裝空間或產(chǎn)品重量受限的情況下使用。此外,第二個(gè)光學(xué)面上具有高損傷閾值的抗反射(AR)涂層可最大限度地提高透射率,減少鬼影反射。光束采樣器第二個(gè)光學(xué)面的涂層有多種選擇,可提供針對不同激光譜線的涂層,包括 266nm、355nm、532nm 和 1064nm 波長。 TECHSPEC® 薄型 Nd:YAG 激光譜線束采樣器采用紫外熔融石英基板,從紫外到紅外波長范圍內(nèi)都具有出色的透光性和較低的熱膨脹系數(shù)。這些光束采樣器非常適合需要監(jiān)測光束功率、波前畸變和光學(xué)損耗的應(yīng)用。
請注意: TECHSPEC® 薄型 Nd:YAG 激光線束采樣器可與 激光測量 產(chǎn)品配合使用,實(shí)時(shí)監(jiān)測光束特性,如光束功率和光強(qiáng)分布。
產(chǎn)品信息
涂層 | DWL (nm) | Dia. (mm) | 涂層規(guī)格 | 產(chǎn)品編碼 |
Laser V-Coat (266nm) | 266 | 12.70 +0.00/-0.10 | Rabs <0.25% @ 266nm @ 0 ±5° AOI | 29-010 |
Laser V-Coat (355nm) | 355 | 12.70 +0.00/-0.10 | Rabs <0.25% @ 355nm @ 0 ±5° AOI | 29-011 |
Laser V-Coat (532nm) | 532 | 12.70 +0.00/-0.10 | Rabs <0.25% @ 532nm @ 0 ±5° AOI | 29-012 |
Laser V-Coat (1064nm) | 1064 | 12.70 +0.00/-0.10 | Rabs <0.25% @ 1064nm @ 0 ±5° AOI | 29-013 |
Laser V-Coat (266nm) | 266 | 25.40 +0.00/-0.10 | Rabs <0.25% @ 266nm @ 0 ±5° AOI | 29-018 |
Laser V-Coat (355nm) | 355 | 25.40 +0.00/-0.10 | Rabs <0.25% @ 355nm @ 0 ±5° AOI | 29-019 |
Laser V-Coat (532nm) | 532 | 25.40 +0.00/-0.10 | Rabs <0.25% @ 532nm @ 0 ±5° AOI | 29-020 |
Laser V-Coat (1064nm) | 1064 | 25.40 +0.00/-0.10 | Rabs <0.25% @ 1064nm @ 0 ±5° AOI | 29-021 |
- 上一篇:GENs光學(xué)支架